深圳烯强电路技术有限公司

按 “电镀对象” 分类 不同电镀工艺对应 PCB 制造的不同环节，核心差异如下表： 电镀类型 应用场景 核心作用 常用金属 孔金属化电镀 多层板、双面板过孔 使绝缘孔壁导电，实现层间电路连接 化学铜（打底）+ 电解铜（增厚） 表面线路电镀 单 / 双面板线路、多层板外层 增厚线路铜层（从 18μm→35-70μm），提升导电性 电解铜 焊接保护层电镀 元器件焊接 pads、引脚 防止铜氧化，降低焊接温度，确保焊接质量 锡（热风整平前）、化学镍金（ENIG） 防氧化 / 耐磨电镀 高频 PCB、连接器接口 提升表面耐腐蚀性、降低接触电阻
高速电镀（High-Speed Plating） 核心原理：通过提高电流密度（通常是直流电镀的 2~5 倍）+ 强化电镀液循环（如喷射、搅拌），加快金属离子迁移速率，实现 “短时间内沉积厚镀层” 的目标。 工艺特点： 沉积速率快（如铜镀层沉积速率可达 20~50μm/h，是常规直流电镀的 3~4 倍）； 需配套高浓度电镀液（保证离子供应）、散热系统（避免电流过大导致局部过热）； 镀层易出现 “边缘效应”（工件边缘镀层偏厚），需通过工装优化。 PCB 应用场景： PCB “通孔电镀”（THP）的厚铜需求（如电源板、服务器 PCB，通孔铜厚需≥25μm）； 批量生产中的镀层沉积（缩短单块 PCB 的电镀时间，提升产能）。
选择性电镀（Selective Plating） 核心原理：通过遮蔽手段（如耐电镀油墨、硅胶塞、工装夹具）保护 PCB 非待镀区域，仅让目标区域（如焊盘、金手指）接触电镀液并沉积金属，实现 “局部镀层” 效果。 工艺特点： 无需后续蚀刻，直接在指定区域形成镀层，减少材料浪费； 遮蔽精度要求高（尤其细间距焊盘，遮蔽偏差易导致镀层缺陷）； 可灵活选择不同镀层（如焊盘镀锡、金手指镀金），兼容性强。 PCB 应用场景： PCB “金手指” 电镀（仅手指区域镀金，其他区域镀锡或裸铜，降低成本）； 局部焊盘的特殊镀层需求（如高频 PCB 的信号焊盘镀银，减少信号损耗）； 修复性电镀（如 PCB 局部镀层磨损后，针对性补镀）。
垂直连续电镀（Vertical Continuous Plating，VCP） 核心原理：PCB 以垂直姿态连续通过多个电镀槽（依次经过酸洗、活化、电镀、清洗等工序），通过槽内的导电辊施加电流，配合高速喷射的电镀液，实现 “连续化、自动化” 电镀。 工艺特点： 自动化程度高（无需人工上下料，适合大批量流水线生产）； 镀层一致性好（PCB 垂直移动 + 均匀喷射，减少工件正反面、边缘与中心的镀层差异）； 设备占地面积大，初期投入成本高（需配套多槽联动系统、自动控制系统）。 PCB 应用场景： 大批量常规 PCB 的全板电镀 / 通孔电镀（如消费电子 PCB、手机 PCB，日均产能可达数万块）； 要求高一致性的镀层生产（如汽车电子 PCB，需保证每块 PCB 的镀层厚度偏差≤10%）。