电镀加工的关键技术难点与控制要点 过孔电镀均匀性：多层板过孔直径小（常＜0.3mm），孔内电流易 “边缘集中”，导致孔口镀层厚、孔中心薄（甚至无镀层）。需通过调整镀液添加剂（如整平剂、走位剂）、降低电流密度、采用脉冲电镀等方式改善。 镀层针孔与麻点：多因镀液中存在杂质（如金属离子、有机物）或电镀时产生气泡（附着在 PCB 表面）。需定期过滤镀液、添加除杂剂，并在镀液中通入压缩空气搅拌，减少气泡。 环保合规：传统电镀（如氰化物镀银、镀镍）会产生含重金属（铜、镍、银）和剧毒物质（氰化物）的废水，需配套废水处理系统（如化学沉淀法除重金属、破氰处理），符合《电镀污染物排放标准》（GB 21900-2008）。
行业发展趋势 无氰化：出于环保要求，氰化物电镀（如氰化镀银、氰化镀金）正逐步被无氰工艺替代，目前无氰镀银技术已成熟，无氰镀金仍在优化成本与性能。 精细化：随着 PCB 向 “高密度、薄型化” 发展（如手机 PCB 线宽 / 线距＜30μm），对电镀精度要求更高，需采用 “纳米级添加剂”“脉冲电镀” 等技术，实现镀层厚度偏差＜5%。 绿色化：推广 “无铅电镀”（替代传统锡铅热风整平）、“回收利用技术”（如从电镀废液中回收铜、镍、金），降低资源消耗与环境污染。
石墨烯孔金属化工艺是与传统化学铜，黑影/日蚀等平行的线路板孔金属化技术，属于直接电镀工艺，其特点可靠，低成本，低碳环保节能降耗，可循环再利用。 相比黑影/日蚀，黑孔，导电膜等其他空金属化工艺，石墨烯孔金属化工艺采用二维材料高导电-石墨烯材料作为导电材料，高导电，超薄，吸附性强;物理性吸附;
导通能力 No ICD,IST测试(百万通孔测试) CAF测试(小间距CAF改善) 应用产品类型 各种材料:常规及改良聚酰亚胺，液晶材料，聚四氟乙烯，聚酯树脂，陶瓷基板等; 硬板，软板，软硬结合板，HDI， IC载板等;