闭环之困：损耗与机遇并存 ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
物理分离法中的机械剥离技术，是通过破碎、筛分和浮选等方法，将ITO涂层与玻璃基板进行分离。随后，再结合化学处理对分离出的ITO涂层进行铟的提取。这种方法主要适用于LCD面板的回收，但需注意，其纯度可能相对较低。
铟靶材回收的主要任务是将铟从靶材中的其他金属和材料中分离出来，并将其提纯至高纯度。回收方法包括火法、湿法和电化学法。 火法冶金工艺使用高温熔炼和精炼来回收铟。这种方法适用于大规模回收，但存在一些缺点，如产生危险废物、高能耗，以及可能损失有价值的铟。 湿法冶金工艺利用化学浸出剂将铟从靶材中溶解出来。这种方法比火法更环保，适用于从成分复杂的靶材中回收铟。然而，这一过程可能较为复杂，需要使用危险化学品。 电化学过程通过电流将铟从靶材中溶解和回收。这种方法也比火法更环保，可以回收较高纯度的铟。但这一过程可能较为复杂，需要专门的设备和专业知识。
ITO靶粉回收过程通常包括以下几个环节： 1.收集与分类。首先需要将生产过程中产生的废靶材、切削碎屑、镀膜残渣等进行分类收集。不同类型的废料可能需要采用不同的处理方式，因此分类是确保后续处理效率的基础。 2.预处理。废料中可能含有油脂、灰尘或其他杂质，需通过清洗、烘干等方式进行初步处理。对于块状废料，可能需要通过机械破碎、研磨等方式将其转化为粉末状，以便于后续化学处理。 3.溶解与浸出。将预处理后的靶粉与酸性溶液（如盐酸或硫酸）反应，使金属成分溶解到溶液中。这一步骤需要控制温度、浓度和反应时间，以提高金属的浸出率。 4.分离与纯化。通过化学沉淀、溶剂萃取或离子交换等方法，将溶液中的铟与其他金属（如锡、铁等）分离开来。随后，通过进一步提纯，获得高纯度的铟化合物。 5.还原与加工。将纯化后的铟化合物通过电解或化学还原法转化为金属铟，并可进一步加工成符合生产要求的ITO靶材。