由于铟靶材在半导体制造等领域有重要应用，一些半导体相关的企业和科研机构可能会有收购铟靶材的需求。这些企业通常对铟靶材的质量和规格有较高的要求，它们可能会通过专业的渠道或与行业内的供应商建立合作关系来获取铟靶材。
ITO（氧化铟锡，Indium Tin Oxide）靶材广泛应用于液晶显示器、触摸屏、太阳能电池等行业。随着ITO靶材的广泛使用，其回收再利用成为降低成本、减少资源浪费、保护环境的重要环节。
ITO靶材回收流程 1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。 2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层 3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层 4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素 5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物 6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。