由于铟靶材在半导体制造等领域有重要应用，一些半导体相关的企业和科研机构可能会有收购铟靶材的需求。这些企业通常对铟靶材的质量和规格有较高的要求，它们可能会通过专业的渠道或与行业内的供应商建立合作关系来获取铟靶材。
ITO靶材的基本介绍
主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2）
应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等
靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程
1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。
2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层
3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层
4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素
5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物
6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
ITO靶材回收市场需求持续增长，尤其在显示面板和光伏行业。
铟价高企，促使更多企业关注废靶材的回收利用。
随着技术进步，回收工艺趋于环保
常见问题答疑：1. 废靶材回收价格如何计算？
主要根据靶材剩余铟锡含量、市场行情、回收工艺等因素浮动。
2. 回收的铟锡纯度能否满足再次制靶需求？
取决于回收及精炼工艺，多数高品质回收企业可将纯度提升至制靶要求。
3. 回收周期多久？
一般为12周，具体视回收量和工艺流程而定。
