ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

ITO靶材回收注意事项：

措施：处理酸碱和废液时需注意和环保。

环保合规：废液和残渣需达标处理，避免二次污染。

回收效率：合理选择工艺，提高铟、锡的回收率和纯度。

从电子废物和废ITO靶材等废物来源中回收氧化铟是铟回收的一个重要方面。从这些废源中回收氧化铟可以通过各种工艺实现，包括化学处理、溶剂萃取和离子交换，回收的氧化铟可用于生产各种半导体器件，从而减少对新铟资源的需求，并将铟开采对环境的影响降至。

目前，市场上已有不少专业的ITO靶材回收企业，他们通过先进的回收技术和设备，将废旧ITO靶材中的铟、锡等元素进行有效分离和提纯，再加工成新的靶材产品，实现了资源的循环利用。