铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材，是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中，铟靶材在高能粒子的轰击下，铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面，形成所需的铟薄膜。

显示技术领域：广泛应用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板显示器件中作为透明电极，确保显示设备既能透光显示图像，又能导电传输信号。

靶材原料（占比约 60%）：

用于制备 ITO（氧化铟锡）靶材，生产 LCD、OLED 显示面板的透明导电膜（如手机屏幕、电视面板）。

光伏领域：作为 CIGS（铜铟镓硒）薄膜太阳能电池的关键原料，提升光电转换效率。

半导体与电子工业（占比约 25%）：

焊料与封装：利用铟的低熔点和延展性，作为半导体芯片的焊接材料（如倒装焊、热沉连接），可适应精密器件的高温稳定性需求。

化合物半导体：与镓、砷等元素合成 InGaAs、InP 等化合物，用于 5G 芯片、激光器、探测器（如红外成像器件）。