ITO靶材的制备通常采用物相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等方法。PVD法通过溅射技术将铟和锡等材料沉积在基材上，形成ITO薄膜。CVD法则是通过气相反应在基材表面生成ITO薄膜。这两种方法都能够生产高质量、均匀的ITO薄膜，但PVD法更为常见。

ITO靶材作为重要的透明导电材料，在电子产业中扮演着重要角色。为了实现资源的可持续利用，铟元素的回收变得尤为重要。目前，化学、物理和电化学回收法都在不同程度上取得了一定的成果，但仍需要进一步的研究和改进。随着技术的不断发展，我们有望找到更加、环保的ITO靶材回收方法，为电子产业的可持续发展做出贡献。

贵金属，涵盖金、银以及铂族金属（包括钌、铑、钯、锇、铱、铂）等八种关键金属元素，因其独特的美学价值和的化学稳定性而备受推崇。在标准条件下，这些金属展现出的抗腐蚀性和抗氧化性，同时兼具优异的电学性能、导电性以及高温热电性能。此外，它们还展现出高催化活性和强配位能力，使得贵金属在工业领域中有着广泛且不可或缺的应用，因而被誉为现代工业的“维他命”。

在检测方法上，贵金属检测涵盖了无损检测与化学法等多种手段。无损检测方法包括X射线荧光光谱法、X探针法以及针对黄金饰品的无损检测石英标样-密度法等，这些方法能够在不损害样品的前提下获取准确信息。而化学法则以火法试金法和原子吸收光谱法为代表，通过化学反应来测定贵金属的含量。同时，还有一些简便的方法如试金石法、银试剂法等，操作简单易懂，适用于现场快速检测。