磁控溅射仪带水冷KT-Z1650PVD离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。
*外形小巧方便移动
*触摸屏控制，工艺记忆储存方便镀相同样品
*自动化电动挡板，能自动打开关闭，保证镀样时间和保护样品
*石英＋不锈钢腔体，方便观察和清洗
磁控溅射仪带水冷KT-Z1650PVD厂家供应技术参数；
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
溅射电源
直流溅射电源
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率
≤1000W
输出电压电流
电压≤1000V 电流≤1A
真空
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空
≤30Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台
可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品溅射源调节距离
40-105mm
真空测量
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
预留真空接口
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口