ITO靶材的制备通常采用物相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等方法。PVD法通过溅射技术将铟和锡等材料沉积在基材上，形成ITO薄膜。CVD法则是通过气相反应在基材表面生成ITO薄膜。这两种方法都能够生产高质量、均匀的ITO薄膜，但PVD法更为常见。

随着电子产业的不断发展，对资源的节约和回收利用的要求也日益提高。ITO靶材中含有昂贵的铟元素，因此开发有效的回收方法变得至关重要。

化学回收法： 化学回收法主要是通过化学溶解或还原反应将ITO薄膜中的铟元素分离出来。这一过程通常包括酸溶解、络合剂处理等步骤，终得到含铟的化合物。随后，通过进一步的化学反应或电化学方法，可以提纯得到高纯度的铟。

物理回收法： 物理回收法主要通过物理手段分离ITO薄膜中的铟和锡。这包括磨碎、筛分、磁选等步骤。研究表明，物理回收法可以有效地提高铟的回收率，并且对环境友好。

电化学回收法： 电化学回收法利用电化学反应将ITO薄膜中的铟还原出来。这通常需要在合适的电解液中进行电解，通过施加电流来促使铟在电极上析出。这一方法对于回收铟具有潜力。

随着科技的不断发展和人们环保意识的提高，回收利用贵金属已成为一种重要的环保和经济效益手段。铟作为一种重要的稀有金属，在电子、光电、通讯等领域有着广泛的应用。

回收铟的保存方法：

1. 干燥保存

回收的铟应存放在干燥、清洁的环境中，避免与腐蚀性物质接触。可以将铟放入密封袋或密封容器中，以防止氧化和与其他物质发生反应。

2. 温度控制

回收的铟应保持在适宜的温度范围内，以避免出现质量损失和变形。在保存过程中，应定期检查温度和湿度，确保环境条件适宜。

3. 分类管理

对于不同类型和纯度的回收铟，应进行分类管理。可以根据铟的纯度、规格、用途等因素进行分类，以便更好地管理和使用。