CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。

CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，平整性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是能够实现全局平面化的有效方法。

抛磨的另外一个功效是可将车漆表面细小的软道划痕磨平。 振抛封釉 这是汽车封釉美容的关键步骤。在专用振抛机的挤压下，晶亮釉被深深压入车漆的毛孔之内，形成牢固的网状保护层，附着在车漆表面。保护剂中富含UV紫外线防护剂，可以大大降低日晒辐射，并可抵御酸碱等化学成份的侵蚀。 无尘打磨 后用无尘纸打磨一遍车身，可让车漆如镜面般光亮。

抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。 抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。