与目前国内常用的异味气体治理方法相比较,低温等离子体工业废气处理技术具有以下特点：A介质阻挡放电产生电子能量高,低温等离子体密度大,达到常用等离子技术（电晕放电)的一千五百倍,几乎可以和所有的恶臭气体分子作用；
B反应速度快,气体通过反应区的速度达到3-15米/秒,即达到很好的处理效果, 其他技术气体通过反应区的速度0.01米/秒都很难达到处理效果；
C气体通过部分,全部采用陶瓷、石英、不锈钢等防腐蚀材料,电极与废气不直接接触,根本上解决了低温等离子体技术设备腐蚀问题；其他技术是气体与电极直接接触,电极在3个月或1年内会造成严重腐蚀,即使通过的气体没有腐蚀性,自身所产生的臭氧也会把电极造成腐蚀;
D主机为成套工业废气处理装置,前面配有专用塔,能有效去除废气中的粉尘和水分,操作简单
等离子光解废气分解除臭净化器：
工作原理
本设备是等离子分解废气净化器+UV光解除臭废气净化器两种设备的完美结合，综合采用了等离子废气净化器和紫外光触媒除臭废气净化器两种设备的优点组合而成，利用等离子分解技术和UV紫外光解技术相结合，对废气和臭气进行协同净化处理！
（1）废气和恶臭气体进入集成设备后，经过UV紫外光束区时，被紫外光波高能率地照射，瞬间产生光解反应，打开废气和臭味污染物分子的化学键，破坏其分子结构和核酸；利用高能紫外光波分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物。
（2）废气和恶臭气体经过等离子体电场区，在纳秒级时间范围内，等离子猛烈轰击废气和臭味等污染物分子，产生裂变分解反应，产生高浓度、高强度、高能量的各种活性自由基、高能电子、高能离子等，同时产生大量臭氧、原子氧、生态氧等混合气体，进行一系列复杂的分化裂解和氧化还原反应； （3）UV紫外光解与等离子分解如此协同地产生一系列光解和分解反应，经过复合式多级净化后从而达标排放！既能安全地净化治理各种有害废气，又能干净地去除各种恶臭味道。
产品优势
、定制适合客户所需要的产品，为客户提供优质的环境污染治理服务uv光解设备掺入金属离子可改进TiO2的光催化功能。21 钟金属离子对TiO2光催化活性的影响。常见的掺杂离子V3+、Mn3+等掺入TiO2晶格中可能引进缺点方位或改动结晶度， 按捺电子空穴的复合，延伸载流子的寿数，从而使uv光解设备光催化功能得以改进。别的TiO2的外表吸附光敏剂延伸其光吸收规模，光敏剂可被光降解而变得无效。因而，为了进步TiO2的光催化活性及其对可见光的吸收率，在TiO2/SiO2中掺杂Fe3+，导致晶粒增大，稳定性下降，大大进步对NO2-的光催化降解率。金离子掺杂对二氧化钛光催化功能的影响。发现TiO2表面担载金单质， 催化剂在540nm 处有一个显着的吸收峰。在TiO2晶格中掺杂Mn、Ru 金属，催化剂在500～600nm 规模内有一个较宽带吸收峰。uv光解设备
挥发性有机污染物中硅、氮等元素浓度过高也将形成光催化设备的失活现象呈现。试验标明，因为光催化设备外表附着了碳等元素，当光催化设备降解家苯废气时，挥发性有机污染物的浓度不断提高，反响速度逐步下降，光催化设备也呈现变色现象。uv光解设备洗刷催化剂中则发现含有家苯等中心反响物。试验证明，挥发性有机污染物浓度高将不利于光催化进程的有用反响。uv光解设备外加氧化剂也是影响光催化进程的重要因素，氧化剂作为要害的电子捕获剂，当时具有气相光催化氧化作用的外加氧化剂有氧气、臭氧，此类氧化剂有利于促进光催化设备反响，是使用面较广的电子捕获剂，且具有直接氧化有机污染物的作用。水蒸气影响光催化进程的原因在于，水蒸气是uv光解设备（1）适应范围广泛，对VOCs有机废气、非甲烷总烃、以及《国家恶臭污染控制标准》中规定的八大恶臭物质（氨、硫化氢、二硫化碳、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、三甲胺、苯乙烯）以及苯、甲苯、二甲苯等废气均能有效治理净化，特别适合处理各种恶臭废气、腐臭废气、喷漆废气、喷涂废气、电泳废气、电镀废气、印刷印染废气、生物制药废气、废水污水臭气废气、污泥臭气处理等。
（2）可以处理各种废气，包括不适合采用等离子处理的废气（比如喷漆废气、喷涂废气、化工废气、含汽油酒精废气、含天那水废气、油漆厂废气、化肥厂废气等），如果采用UV光解设备，安全性更高.注意事项
1、为保证设备的净化效率，风机应设在废气净化器的后面。
2、废气净化器如安装在支架之上时，应与支